photolithography, fotolitografia

Técnica empregada na fabricação de circuitos integrados. O do circuito é desenhado, fotografado e reduzido a um negativo com o tamanho final desejado. Esse negativo é chamado de photomask (fotomáscara). Depois, a luz passa através da fotomáscara sobre uma lâmina de material semicondutor revestida com um material fotorresistente. Quando a luz atinge esse material, sua composição se modifica. No próximo passo, o material fotorresistente não atingido pela luz é retirado. Por fim, o material semicondutor é exposto a uma solução de gravação química que marca a superfície não protegida pelo material fotorresistente, criando o molde do circuito desejado na superfície da lâmina. Ver também photomask (fotomáscara); photoresist (fotorresistivo).
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